阿斯麦揭示 EUV 光源技术突破 有望在 2030 年前实现芯片产量提升 50%
金十数据 2 月 23 日讯，据外媒报道，阿斯麦(ASML.O)的研究人员表示，他们已找到一种方法，可提升一款关键芯片制造设备光源的功率，使芯片产量在本十年末提升高达 50%。阿斯麦是全球唯一一家生产商用极紫外光刻（EUV）设备的公司，该设备是台积电、英特尔等芯片制造商生产先进计算芯片的关键工具。阿斯麦负责极紫外光刻的首席技术专家 Michael Purvis 在接受采访时表示，“这并非噱头，也不是那种只能维持极短时间演示的把戏。该系统能在完全符合客户实际使用条件的前提下，稳定输出 1000 瓦功率。”