SK 海力士正积极扩大其 DRAM 制造中铪基高 k 前驱体的供应商范围
为打破供应链单一依赖，SK 海力士正积极扩大其 DRAM 制造中铪（Hf）基高 k（High-k，高介电常数）前驱体的供应商范围。这种前驱体长期以来一直受日本 Tri Chemical Laboratories Inc. (TCLC)公司持有的专利保护，但这些专利将于今年晚些时候到期。