捷佳伟创出货光掩膜清洗设备
金十数据 7 月 29 日讯，近日，公司子公司创微微电子（常州）有限公司自主研发的光掩模清洗设备在多家终端 Fab 厂完成验证并实现量产交付，提供的设备在颗粒控制、无水痕、表面洁净度上都满足先进制程要求。在光掩膜清洗领域，创微微电子已形成完整产品矩阵，覆盖 5"–9"多种尺寸石英光掩膜，支持前后面全自动清洗、可选 AOI 颗粒检测、SMIF 自动上下料，关键零部件国产化率超 80%，软件完全自主开发。