北方华创发布第三代 12 英寸全石英立式氮化硅 LPCVD 设备
近日，北方华创正式面向全球市场推出第三代 12 英寸全石英立式氮化硅低压化学气相沉积（LPCVD）设备 SICRIUS SN302D Ⅱ。该设备助推北方华创深度切入存储、先进逻辑、硅光集成、高端传感器等高景气赛道。