阿斯麦称 High NA EUV 首次进入高产量逻辑芯片生产
阿斯麦 9 月 1 日透露，其 High NA EUV（高数值孔径极紫外光刻）平台首次用于高产量逻辑芯片产品，标志着 0.55 NA 光刻技术从认证阶段迈向生产应用。