ASML 与台积电共同发起一项产业合作倡议，旨在推动向 12 英寸光罩的转型，以最大化 High NA EUV 光刻技术的价值。该倡议目标于 2031 年前建立一条 12 英寸光罩试产线，并于 2033 年前为先进制程节点生产做好完整光刻系统准备。值得强调的是，该倡议获得产业界的广泛支持，多家 High NA EUV 采用者及其他主要供应商已表达加入意向。（彭博）