清溢光电：55nm 相移掩膜版产品进入客户上线认证阶段
清溢光电公告称，公司 55nm PSM（相移掩膜版）产品已与客户签署保密协议并确认产品规格书，已收到客户采购订单，产品现已交货，进入客户上线认证阶段。该产品主要用于半导体芯片制造关键光刻层，覆盖逻辑、存储等高精密图形场景。若该产品顺利完成认证并实现规模化批量供货，将完善公司高端半导体掩膜产品矩阵，提升半导体掩膜业务盈利能力。目前认证周期、认证结果存在不确定性，批量供货时间暂无法确定，后续销售情况也存在不确定性。