广钢气体：拟增加武汉半导体气站项目投资至 7.55 亿元
广钢气体公告称，公司拟使用自有资金增加武汉广钢半导体电子大宗气站项目投资额度并调整内部投资结构，项目投资总额将由 5.03 亿元增加至 7.55 亿元，募集资金使用计划不变，追加的 2.52 亿元自有资金主要用于设备购置、土建及安装工程等费用增加。该事项已经公司第三届董事会第十七次会议审议通过，无需提交股东会审议，保荐机构已发表明确同意的核查意见，本次投资不构成关联交易及重大资产重组。